«За пределами EUV»: Lace Lithography готовит литографию на атомах гелия с разрешением 0,1 нм

24.03.2026 в 18:09,
Hard news

Норвежский стартап Lace Lithography при поддержке Microsoft привлёк $40 млн в рамках первого раунда финансирования для разработки литографического сканера, использующего пучок атомов гелия при обработ

ке кремниевых пластин. Компания утверждает, что её технология позволит создавать элементы чипов в 10 раз меньшего размера, чем существующие системы литографии, с шириной пучка всего 0,1 нм — EUV ...

Автор: 3DNews
Источник: https://3dnews.ru/1138815
×