Без использования новых материалов переход к более современным техпроцессам стал невозможным

В ближайшие годы TSMC, Intel и Samsung собираются освоить выпуск чипов по литографическим нормам ангстремного порядка — менее 2 нм, и представители отрасли заявляют, что такой переход нельзя буд

ет осуществить без существенных инноваций в области расходных материалов и химикатов для производства полупроводниковых компонентов. Источник изображения: Entegris ...