Установлен первый литографический сканер ASML для выпуска 2-нм чипов по технологии Low-NA EUV

13.03.2024 в 17:42,
Hard news

В контексте недавних достижений во взаимодействия компаний Intel и ASML как-то был упущен из виду тот факт, что производители чипов надеются освоить выпуск 2-нм продукции без перехода на использование

более дорогих EUV-сканеров с высоким значением числовой апертуры (High-NA). На этой неделе ASML сообщила, что первый сканер Twinscan NXE:3800E с низким значением числовой апертуры (Low-NA) был устано ...

Автор: 3DNews
Источник: https://3dnews.ru/1101647
×